Au cours de votre alternance au sein du CEA LITEN, votre objectif sera   la mise au point de procédés de photolithographie par Direct Imaging.

L'intérêt de cette méthode de patterning grande surface réside dans la possibilité de fabriquer des motifs microniques sans utiliser de masquage mécanique. Cette dernière est particulièrement adaptée à l'impression de matrices de composants sur support souple (polymère par exemple).

Le travail consistera à imprimer des résines photosensibles positives et négatives par sérigraphie ou Slot-Die, à définir et mettre en place le protocole de développement de cette résine, et à évaluer les qualités des motifs obtenus à travers des caractérisations morphologiques (MEB, profilométrie mécanique). Dans ce cadre, le développement de procédés d'impression de type sérigraphie ou Slot Die sera mis en oeuvre sur ces encres,ainsi que sur des encres conductrices, diélectriques ou piézoélectriques permettant la réalisation de capteurs.  

De formation Bac, vous êtes actuellement en première année de BUT chimie , option matériaux  et vous reverchez une entreprise pour réaliser votre alternance de seconde et troisième année.

Compétences scientifiques : Sciences et génie des matériaux - Sciences et génie des procédés

Connaissances : Connaissance des matériaux polymères, développement procédés

Vous êtes reconnu(e) pour votre : sens de l'initiative, bonne capacité d'adaptation, force de proposition, rigueur,