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Moteur de recherche d'offres d'emploi CEA

Ingénieur en lithographie computationnelle H/F


Détail de l'offre

Informations générales

Entité de rattachement

Le Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA) est un organisme public de recherche.

Acteur majeur de la recherche, du développement et de l'innovation, le CEA intervient dans le cadre de ses quatre missions :
. la défense et la sécurité
. l'énergie nucléaire (fission et fusion)
. la recherche technologique pour l'industrie
. la recherche fondamentale (sciences de la matière et sciences de la vie).

Avec ses 16000 salariés -techniciens, ingénieurs, chercheurs, et personnel en soutien à la recherche- le CEA participe à de nombreux projets de collaboration aux côtés de ses partenaires académiques et industriels.  

Référence

2022-22323  

Description de la Direction

Le LETI soutient l'industrie des semi-conducteurs dans sa quête vers la miniaturisation et la performance. S'appuyant sur des équipements de pointe de la plate-forme Silicium, nos équipes proposent des services de simulations, de développement technologique et de prototypage. Notre mission est d'innover et de transférer les innovations aux partenaires industriels.

Description de l'unité

Au sien du Département des Plateformes Technologiques, le laboratoire de lithographie avancée a pour objectif de proposer des solutions d'impression de motifs à l'état de l'art et novatrices permettant à ses clients internes et externes d'atteindre l'excellence et la notoriété au niveau international. Le laboratoire est structuré en trois thématiques de lithographie : optique, maskless et computationnelle.
Le poste est à pourvoir au sein du Computational Lithography Group (CLG): une équipe pluridisciplinaire et dynamique composée d'une quinzaine d'expert.es dans la préparation des données pour la lithographie, métrologie et logiciels associés. L'équipe travaille en forte synergie avec plusieurs partenaires industriels, facilitant un transfert rapide de ses innovations. Le CLG assure également la préparation des données de lithographie par simulation pour la production de lithographie du LETI

Description du poste

Domaine

Technologies micro et nano

Contrat

CDI

Intitulé de l'offre

Ingénieur en lithographie computationnelle H/F

Statut du poste

Cadre

Description de l'offre

La lithographie 193 nm par immersion (193i) est une technologie clé du LETI permettant d’écrire des dessins de microélectronique avancée dont les tailles caractéristiques sont en dessous de la longueur d’onde (40 nm). Cette prouesse technologique est rendue possible grâce à la modélisation et à la correction des effets de proximité optique (OPC), liés aux processus de diffraction et d’interférence optique manifestes à ces échelles.

Les applications technologiques CMOS, quantique, photonique et mémoire du LETI, qui gravitent autour de la lithographie 193i, nécessitent l’impression de dessins de différents types (Manhattan, courbes) et présentent des exigences diverses sur l’empilement des matériaux à intégrer. Pour cela, des modèles de lithographie doivent être calibrées au mieux, compte tenu des spécifications de chaque projet.

L’amélioration de ces modèles et donc de la lithographie s’appuie sur la caractérisation de plus en plus précise et complète des motifs imprimés notamment à partir d’images de microscopie électronique (SEM). Les informations d’intérêt extraites des images SEM vont des simples mesures unidimensionnelles classiques (1D), de l’extraction de contour (2D) jusqu’à la reconstruction de la topographie (3D).

 

Vous mènerez les missions suivantes :

  • Calibration de modèles de lithographie 193i
    • Optimiser la source optique du scanner 193i compte tenu de la technologie visée.
    • Définir intelligemment les motifs de calibration et les réaliser par lithographie.
    • Acquérir les données de métrologie associées à partir de différents équipements de métrologie du LETI.
    • Traiter ces mesures expérimentales en utilisant des algorithmes développés dans le groupe, externes, ou restant à construire.
  • Création, amélioration et/ou utilisation des scripts de correction des effets de proximité (OPC) à l’aide d’un flow semi-automatisé pour assurer les exigences de production et de qualité de la lithographie 193i au LETI.
  • Vérification de la qualité de la correction OPC et des modèles par métrologie 2D/3D.

 Ces travaux s’effectueront en lien étroit avec les équipes de lithographie et de métrologie de salle blanche, ainsi qu’avec les différents départements applicatifs du CEA-LETI.

 Le Computational Lithography Group (CLG) gère ses projets en mode Agile Scrum pour une meilleure flexibilité dans un contexte changeant et où les défis technologiques évoluent rapidement.

Profil du candidat

Formation :

Diplôme d’ingénieur/M2 (BAC+5) en physique / mathématiques appliquées / informatique / traitement du signal

 

Compétences :

Une connaissance de base de la physique des semi-conducteurs, de la photolithographie est requise ainsi que de la microscopie électronique à balayage, à force atomique, en coupe.

Vous avez la capacité d’apprendre et d’utiliser les langages de programmations Python et les librairies internes. Ainsi que l’utilisation de software commerciaux : Calibre, SIMPL.

Les connaissances en environnement Pycharm, SVN, intégration continue et de la méthode Agile Scrumban seraient appréciées.

 

#LI-MB1

Localisation du poste

Site

Grenoble

Localisation du poste

France

Ville

Grenoble

Demandeur

Disponibilité du poste

05/09/2022