Informations générales
Entité de rattachement
Le Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA) est un organisme public de recherche.
Acteur majeur de la recherche, du développement et de l'innovation, le CEA intervient dans le cadre de ses quatre missions :
. la défense et la sécurité
. l'énergie nucléaire (fission et fusion)
. la recherche technologique pour l'industrie
. la recherche fondamentale (sciences de la matière et sciences de la vie).
Avec ses 16000 salariés -techniciens, ingénieurs, chercheurs, et personnel en soutien à la recherche- le CEA participe à de nombreux projets de collaboration aux côtés de ses partenaires académiques et industriels.
Référence
2022-24844
Description de l'unité
A Grenoble, au centre des Alpes, le LETI est un institut de recherche appliquée en micro et nano technologies, technologies de l'information et de la santé.
Interface privilégiée du monde industriel et de la recherche académique, il assure chaque année le développement et le transfert de technologies innovantes dans des secteurs variés via des programmes de recherche utilisant nos plateformes technologiques.
Description du poste
Domaine
Technologies micro et nano
Contrat
Stage
Intitulé de l'offre
Stage : Gravure contact en technologie FDSOI 10nm H/F
Sujet de stage
Le CEA-Leti développe et intègre des technologies innovantes pour l'industrie du semi-conducteur. Ses équipes préparent la prochaine génération de composants logiques en technologie FDSOI. Au-delà des performances accrues qu'ils permettront, ces composants offriront des gains importants de consommation en énergie. Cependant, les challenges technologiques sont multiples. Parmi ceux-ci, l'intégration de millions de contact par cm² requière des sélectivités de gravure extrêmes, et cela notamment pour relâcher les contraintes d'alignement entre le positionnement des contacts et les sources, drains et grilles, des transistors sous-jacents. Plus précisément, le travail de stage se propose de développer un procédé de gravure par couche atomique de Si3N4. Le procédé devra présenter une forte anisotropie, être sélectif au SiO2, et cela en fond de motif de facteur d'aspect de 5 à 10.
Durée du contrat (en mois)
6 mois max
Description de l'offre
Le travail, à dominante expérimentale, se déroulera en salle blanche, sur des équipements acceptant des plaques de diamètres 300mm. Il portera sur le développement de procédés de gravure par couche atomique de Si3N4 en chimies fluoro-carbonées. Dans une première phase, l’influence sur la vitesse de gravure des paramètres du procédé tel que le mélange de gaz, la pression, la température, mais aussi et surtout le schéma d’alternance dépôt/gravure propre aux procédés ALE sera étudiée. Les enseignements seront mis en application dans une seconde phase sur des gravures de contacts, caractérisés par microscopies électroniques à balayage ou a transmission. L’objectif de ce projet de fin d’étude est de développer un procédé de gravure de contact en technologie FDSOI 10nm qui puisse, in fine, être transférer aux partenaires industrielles du CEA-Leti. Rigueur et organisation, sens de l’analyse, et autonomie sont nécessaire pour réussir.
Profil du candidat
Master 2 / écoles ingénieurs
Localisation du poste
Site
Grenoble
Localisation du poste
France, Auvergne-Rhône-Alpes, Isère (38)
Ville
GRENOBLE
Critères candidat
Diplôme préparé
Bac+5 - Master 2
Possibilité de poursuite en thèse
Oui
Demandeur
Disponibilité du poste
01/02/2023
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