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Moteur de recherche d'offres d'emploi CEA

Dépôt sélectif de surface par iCVD H/F


Détail de l'offre

Informations générales

Entité de rattachement

Le Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA) est un organisme public de recherche.

Acteur majeur de la recherche, du développement et de l'innovation, le CEA intervient dans le cadre de ses quatre missions :
. la défense et la sécurité
. l'énergie nucléaire (fission et fusion)
. la recherche technologique pour l'industrie
. la recherche fondamentale (sciences de la matière et sciences de la vie).

Avec ses 16000 salariés -techniciens, ingénieurs, chercheurs, et personnel en soutien à la recherche- le CEA participe à de nombreux projets de collaboration aux côtés de ses partenaires académiques et industriels.  

Référence

2019-10534  

Délai de traitement

3 mois

Description du poste

Domaine

Technologies micro et nano

Contrat

Stage

Intitulé de l'offre

Dépôt sélectif de surface par iCVD H/F

Sujet de stage

Dans le but de réduire les coûts de fabrication des circuits intégrés et de poursuivre leur miniaturisation, des approches reposant sur l'utilisation de procédés de dépôts sélectifs sont désormais envisagées en complément de la photolitographie. Les développements récents sont très majoritairement liés à l'utilisation du dépôt par couches atomiques (ALD) qui est une technique très appropriée pour le développement d'un procédé sélectif en raison de sa grande sensibilité à la chimie de surface. Mais de nouvelles approches doivent être développées pour améliorer la sélectivité des procédés et permettre la croissance de couches de plusieurs dizaines de nm.

Durée du contrat (en mois)

6 mois

Description de l'offre

Une première partie concernera la mise en place d’un dépôt sélectif localisé (ASD pour Area Selective Deposition) basé sur l’utilisation d’une couche organique permettant la désactivation des réactions chimiques de surface en ALD. Cette approche qui utilise généralement des monocouches auto-assemblées, sera réalisée ici à l’aide d’une technique innovante de dépôt de polymères par CVD (iCVD).

En parallèle, on s’intéressera à l’étude de la croissance localisée d’un diélectrique par iCVD en jouant sur la nature de la sous-couche (métaux vs diélectriques, hydrophiles vs hydrophobes, …). Des analyses de surface et des caractérisations des couches minces (par ellipsométrie, FTIR, AFM, …) permettront d’identifier la meilleure approche afin d’obtenir des sélectivités les plus élevées possibles pour permettre le dépôt sélectif localisé de couches « épaisses ».

 

Pour postuler à cette annonce, merci de contacter Mr JOUSSEAUME Vincent à l'adresse suivante : vincent.jousseaume@cea.fr

Profil du candidat

Master 2

Localisation du poste

Site

Grenoble

Localisation du poste

France, Auvergne-Rhône-Alpes

Demandeur

Disponibilité du poste

03/02/2020