Informations générales
Entité de rattachement
Le CEA est un acteur majeur de la recherche, au service des citoyens, de l'économie et de l'Etat.
Il apporte des solutions concrètes à leurs besoins dans quatre domaines principaux : transition énergétique, transition numérique, technologies pour la médecine du futur, défense et sécurité sur un socle de recherche fondamentale. Le CEA s'engage depuis plus de 75 ans au service de la souveraineté scientifique, technologique et industrielle de la France et de l'Europe pour un présent et un avenir mieux maîtrisés et plus sûrs.
Implanté au cœur des territoires équipés de très grandes infrastructures de recherche, le CEA d'un large éventail de partenaires académiques et industriels en France, en Europe et à l'international.
Les 20 000 collaboratrices et collaborateurs du CEA partagent trois valeurs fondamentales :
• La conscience des responsabilités
• La coopération
• La curiosité
Référence
2022-21725
Description de la Direction
Le LETI soutient l'industrie des semi-conducteurs dans sa quête vers la miniaturisation et la performance. S'appuyant sur des équipements de pointe de la plate-forme Silicium, nos équipes proposent des services de simulations, de développement technologique et de prototypage. Notre mission est d'innover et de transférer les innovations aux partenaires industriels.
Description de l'unité
Au sien du Département des Plateformes Technologiques, le laboratoire de lithographie avancée a pour objectif de proposer des solutions d'impression de motifs à l'état de l'art et novatrices permettant à ses clients internes et externes d'atteindre l'excellence et la notoriété au niveau international. Le laboratoire est structuré en trois thématiques de lithographie : optique, maskless et computationnelle.
Le poste est à pourvoir au sein du Computational Lithography Group (CLG): une équipe pluridisciplinaire et dynamique composée d'une quinzaine d'expert.es dans la préparation des données pour la lithographie, métrologie et logiciels associés. L'équipe travaille en forte synergie avec plusieurs partenaires industriels, facilitant un transfert rapide de ses innovations. Le CLG assure également la préparation des données de lithographie par simulation pour la production de lithographie du LETI.
Description du poste
Domaine
Mathématiques, information scientifique, logiciel
Contrat
CDD
Intitulé de l'offre
Ingénieur Métrologie Avancée et Exploitation de Données de Lithographie
Statut du poste
Cadre
Durée du contrat (en mois)
9 mois (renouvelables)
Description de l'offre
Pour une meilleure maîtrise des processus de fabrication des dispositifs de la microélectronique, un soin particulier est à apporter aux étapes de contrôles et de mesures des structures réalisées par lithographie et gravure.
Ainsi, des étapes de métrologie 2D et 3D conjointes à des analyses de données innovantes deviennent essentielles pour assurer la production de motifs de tailles ultimes.
Vous serez intégré au Computational Lithography Group (CLG) dans un environnement à fort potentiel d’innovation et multidisciplinaire.
Vous mènerez à bien les missions suivantes :
· Production, métrologie et analyse de motifs 2D/3D :
o Conception et design de structures nanométriques.
o Fabrication des nanostructures en collaboration avec la plateforme technologique.
o Métrologie 2D (vue du dessus) ou 3D (vue en coupe) à partir des équipements SEM, TEM et AFM.
· Extraction des informations de valeur des données de métrologie
· Utilisation, retours d’expériences et amélioration du logiciel partenaire pour la métrologie d’images SEM.
· Communications régulières des résultats au cours de réunions de suivi
Dans le cadre de ces missions, nous recrutons un(e) ingénieur(e) qui devra mettre en forme les données expérimentales et les analyser, synthétiser les résultats et proposer des idées d’amélioration. Le(a) candidat(e) travaillera en étroite collaboration avec des partenaires industriels du Leti et il(elle) aura à fournir des documents techniques de très bon niveau et communiquer les résultats au cours des réunions de suivi.
Le Computational Lithography Group (CLG) gère ses projets en mode Agile Scrum pour une meilleure flexibilité dans un contexte changeant et où les défis technologiques évoluent rapidement.
Profil du candidat
Formation : Vous êtes en possession d’un diplôme d’ingénieur/M2 (BAC+5) en physique / micro-électronique / informatique
Compétences particulières : Une connaissance de base de la physique des semi-conducteurs, de la photolithographie est requise ainsi que de la microscopie électronique à balayage, à force atomique, en coupe.
Vous avez la capacité d’apprendre et d’utiliser les langages de programmations Python et les librairies internes.
Les connaissances en environnement Pycharm, SVN, intégration continue et de la méthode Agile Scrumban seraient appréciées.
Qualités adaptées : Être dynamique, savoir s’intégrer rapidement au sein d’une équipe, savoir communiquer et être force de proposition. Avoir un esprit critique et une forte curiosité scientifique.
Localisation du poste
Site
Grenoble
Localisation du poste
France, Auvergne-Rhône-Alpes, Isère (38)
Ville
GRENOBLE
Critères candidat
Langues
Anglais (Courant)
Demandeur
Disponibilité du poste
25/07/2022
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