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Moteur de recherche d'offres d'emploi CEA

Ingénieur production et exploitation des données expérimentales de lithographie


Détail de l'offre

Informations générales

Entité de rattachement

Le Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA) est un organisme public de recherche.

Acteur majeur de la recherche, du développement et de l'innovation, le CEA intervient dans le cadre de ses quatre missions :
. la défense et la sécurité
. l'énergie nucléaire (fission et fusion)
. la recherche technologique pour l'industrie
. la recherche fondamentale (sciences de la matière et sciences de la vie).

Avec ses 16000 salariés -techniciens, ingénieurs, chercheurs, et personnel en soutien à la recherche- le CEA participe à de nombreux projets de collaboration aux côtés de ses partenaires académiques et industriels.  

Référence

2020-14975  

Description de la Direction

Le LETI dispose d'une plate-forme Silicium qui regroupe tous les moyens opérationnels (équipements et procédés) et dont la mission est d'apporter aux clients internes et externes un service de réalisations technologiques dans le domaine des micro et nano technologies.

Description de l'unité

Les technologies de lithographie électronique et optique sont utilisées au LETI pour écrire des structures aux dimensions nanométriques sur des plaques de silicium pour différentes applications (CMOS, photonique, quantique). Les dessins visés peuvent présenter des architectures complexes courbes et de densités variables, et nécessitent pour être imprimés le plus fidèlement possible des étapes de calibration des modèles de lithographie. Cela passe par l'acquisition de données expérimentales à produire, en général, à l'aide de microscopes électroniques (SEM).

Description du poste

Domaine

Technologies micro et nano

Contrat

CDD

Intitulé de l'offre

Ingénieur production et exploitation des données expérimentales de lithographie

Statut du poste

Cadre

Durée du contrat (en mois)

18 mois (renouvelables)

Description de l'offre

Pour améliorer la qualité des processus de fabrication de l’industrie de la microélectronique, un soin particulier est à apporter au contrôle tridimensionnelle des transistors. Ainsi, des étapes de métrologie 2D et 3D conjointes à des analyses de données innovantes deviennent essentielles pour assurer la production de motifs de tailles ultimes.

 

Le poste est à pourvoir au sein du groupe de Computational Lithography (CLG) composé d’une dizaine de personnes spécialisées en lithographie, métrologie et softwares associés. Le groupe travaille en forte synergie avec plusieurs industriels (ASELTA, ST). Ces collaborations visent à un transfert rapide des innovations développées dans le groupe.

 

Vous mènerez à bien les missions suivantes :

- Production, métrologie et analyse de motifs 2D/3D :

  • Conception et design de structures nanométriques.
  • Fabrication des nanostructures en collaboration avec la plateforme technologique.
  • Métrologie 2D (vue du dessus) ou 3D (vue en coupe) à partir des équipements SEM, TEM et AFM.


- Extraction des informations de valeur des données de métrologie


- Utilisation, retours d’expériences et amélioration du logiciel partenaire pour la métrologie d’images SEM.


- Communications régulières des résultats au cours de réunions de suivi
Le groupe CLG gère ses projets en mode Agile Scrum pour une meilleure flexibilité dans un contexte changeant.

 

Les savoirs faire mis en œuvre sont :

  • Technologies : Microscopie électronique à balayage, à force atomique, en coupe. Lithographie électronique et optique
  • Programmation : Python, librairies internes
  • Environnement : Pycharm, SVN, intégration continue, méthode Scrumban.

Profil du candidat

Diplôme d'ingénieur en physique / traitement du signal / informatique.

Dynamique, bonne communication, force de proposition.

Localisation du poste

Site

Grenoble

Localisation du poste

France

Ville

Grenoble

Demandeur

Disponibilité du poste

04/01/2021