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Moteur de recherche d'offres d'emploi CEA

Stage: Contrôle dimensionnel des masques de photolithographie H/F


Détail de l'offre

Informations générales

Entité de rattachement

Le Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA) est un organisme public de recherche.

Acteur majeur de la recherche, du développement et de l'innovation, le CEA intervient dans le cadre de ses quatre missions :
. la défense et la sécurité
. l'énergie nucléaire (fission et fusion)
. la recherche technologique pour l'industrie
. la recherche fondamentale (sciences de la matière et sciences de la vie).

Avec ses 16000 salariés -techniciens, ingénieurs, chercheurs, et personnel en soutien à la recherche- le CEA participe à de nombreux projets de collaboration aux côtés de ses partenaires académiques et industriels.  

Référence

2022-23835  

Description de l'unité

A Grenoble, au centre des Alpes, le LETI est un institut de recherche appliquée en micro et nano technologies, technologies de l'information et de la santé.
Interface privilégiée du monde industriel et de la recherche académique, il assure chaque année le développement et le transfert de technologies innovantes dans des secteurs variés via des programmes de recherche utilisant nos plateformes technologiques.

Description du poste

Domaine

Technologies micro et nano

Contrat

Stage

Intitulé de l'offre

Stage: Contrôle dimensionnel des masques de photolithographie H/F

Sujet de stage

Avec l'arrivée des nœuds de type 10nm, la précision d'écriture des masques de photolithographie doit être prise en compte dans l'évaluation de la variabilité du procédé de fabrication. On propose ainsi de vérifier la précision d'écriture de ces masques à partir d'images du masque prises en microscopie électronique à balayage et à l'aide de nouveaux outils d'analyses d'images.

Durée du contrat (en mois)

6 max

Description de l'offre

A partir de contours extraits des images SEM masque, vérifier que les spécifications de fabrication sont bien respectées. Quantification de la variabilité masque et corrélation éventuelle avec celle observée à l’étape de lithographie.

Aspect novateur: Disposant d’un outil d’analyse d’image robuste, nous sommes en mesure de pouvoir contrôler et analyser finement les écarts potentiels sur des motifs complexes, entre la réalisation des masques de photolithographie et le design demandé. Connaissant ces écarts il devient alors possible d’anticiper le futur comportement en salle blanche de la réalisation des composants électroniques.

 

Profil du candidat

Bac+5 microélectronique / informatique / physique

Localisation du poste

Site

Grenoble

Localisation du poste

France, Auvergne-Rhône-Alpes, Isère (38)

Ville

GRENOBLE

Critères candidat

Diplôme préparé

Bac+5 - Master 2

Possibilité de poursuite en thèse

Non

Demandeur

Disponibilité du poste

01/02/2023