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Moteur de recherche d'offres d'emploi CEA

Des surfaces atomiquement parfaites par modulation des micro-textures H/F


Détail de l'offre

Informations générales

Entité de rattachement

Le Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA) est un organisme public de recherche.

Acteur majeur de la recherche, du développement et de l'innovation, le CEA intervient dans le cadre de ses quatre missions :
. la défense et la sécurité
. l'énergie nucléaire (fission et fusion)
. la recherche technologique pour l'industrie
. la recherche fondamentale (sciences de la matière et sciences de la vie).

Avec ses 16000 salariés -techniciens, ingénieurs, chercheurs, et personnel en soutien à la recherche- le CEA participe à de nombreux projets de collaboration aux côtés de ses partenaires académiques et industriels.  

Référence

2019-10477  

Description du poste

Domaine

Technologies micro et nano

Contrat

Stage

Intitulé de l'offre

Des surfaces atomiquement parfaites par modulation des micro-textures H/F

Sujet de stage

Les procédés de fabrication des puces en microélectronique peuvent générer des défauts qui dégradent les rendements de production (nombre de produits fonctionnels en fin de fabrication).
La CMP - polissage mécano-chimique - est une étape aujourd'hui largement utilisée dans toute l'industrie de la microélectronique (processeurs, imageurs, mémoires, capteurs, …) pour obtenir des surfaces aplanies à l'échelle atomique.
Les défauts principaux générés pendant cette étape sont des micro-rayures sur les surfaces polies. Celles-ci impactent directement les rendements et doivent constamment être minimisées, voir supprimées.
La finalité du stage est de mettre en évidence les modes d'apparition de ces micro-rayures pour définir des axes d'optimisation.
Les modes investigués ici seront focalisés sur l'état de surface 3D d'un type de consommables utilisés lors du polissage, les tissus de polissage.

Durée du contrat (en mois)

4 à 6 mois

Description de l'offre

Travail demandé :

-Modulation et caractérisation de la micro-texture de tissus de polissage.
-Mise en relation de cette micro-texture avec la quantité de micro-rayures générée pendant le polissage des plaques.
-Création d’une méthodologie de révélation de ces défauts, d’abord sur oxyde de silicium puis sur nitrure de silicium.

 

Pour postuler à cette offre, merci de contacter Mr SEIGNARD Aurélien à l'adresse suivante : aurelien.seignard@cea.fr

 

 

 

Mots clés : Physique, Chimie, Matériaux, Procédés, Mesure, Caractérisation, Salle Blanche, Wafer

Profil du candidat

Master 1 ou 2

Localisation du poste

Site

Grenoble

Localisation du poste

France, Auvergne-Rhône-Alpes

Demandeur

Disponibilité du poste

03/02/2020