La tendance à la réduction du pas pixel des imageurs impose de fortes contraintes sur l’étape de gravure. En particulier, celle-ci doit permettre la réalisation de motifs à fort facteur de forme (tranchée profonde et fine) pour la définition des pixels. L’objectif est d’affiner la compréhension du mécanisme de gravure et ses limitations (aspect ratio dependant etching).

Vous aurez pour mission de faire une étude bibliographique sur les gravures de matériaux III-V, proposer et réaliser un plan d’expériences via la fabrication en salle blanche de structures de test. Des caractérisations morphologiques et des analyses chimiques de surface précèderont une synthèse des résultats.

Qu’attendons-nous de vous ?

 - Cursus Physique / Matériaux / Micro-électronique

- Expérience et goût pour le travail en salle blanche requis

- Autonomie, force de proposition, esprit de synthèse

Rejoignez-nous, venez développer vos compétences et en acquérir de nouvelles !

Vous avez encore un doute ? Nous vous proposons :

• L'opportunité de travailler au sein d'une organisation de renommée mondiale dans le domaine de la recherche scientifique,
• Un environnement unique dédié à des projets ambitieux au profit des grands enjeux sociétaux actuels,
• Une expérience à la pointe de l’innovation, comportant un fort potentiel de développement industriel,
• Des moyens expérimentaux exceptionnels et un encadrement de qualité,
• De réelles opportunités de carrière à l’issue de votre stage
• Un poste au cœur de la métropole grenobloise, facilement accessible via la mobilité douce favorisée par le CEA,
• Une participation aux transports en commun à hauteur de 85%,
• Un équilibre vie privée – vie professionnelle reconnu,
• Un restaurant d'entreprise,
• Une politique diversité et inclusion,

Conformément aux engagements pris par le CEA en faveur de l'intégration des personnes handicapées, cet emploi est ouvert à toutes et à tous. Le CEA propose des aménagements et/ou des possibilités d'organisation pour l'inclusion des travailleurs handicapés.