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Moteur de recherche d'offres d'emploi CEA

Réalisation d’Antireflet sol-gel par spray sur composants optiques de grandes dimensions


Détail de l'offre

Informations générales

Entité de rattachement

Situé à 40 km au sud de Paris, le centre DAM-Île de France, a en charge la conception des armes nucléaires françaises, la recherche et développement dans le domaine de la lutte contre la prolifération et le terrorisme, l'alerte aux autorités en cas de séisme, de tsunami ou d'essai nucléaire étranger, la construction et le démantèlement de grandes infrastructures nucléaires. Leader français de la simulation numérique et du calcul intensif, il possède deux des machines européennes les plus puissantes. Il dispose également de plusieurs accélérateurs et de nombreux moyens techniques et expérimentaux pour mener ses recherches. Lui est également rattaché, l'Unité Propulsion Nucléaire située sur le centre CEA/Cadarache en région Provence Alpes-Côte d'Azur, où sont implantées les installations d'essais et une partie des fabrications de la propulsion nucléaire.  

Référence

2021-18649-S0486  

Description du poste

Domaine

Matériaux, physique du solide

Contrat

Stage

Intitulé de l'offre

Réalisation d’Antireflet sol-gel par spray sur composants optiques de grandes dimensions

Sujet de stage

Réalisation d’Antireflet sol-gel par spray sur composants optiques de grandes dimensions

Durée du contrat (en mois)

12 mois

Description de l'offre

Contrairement aux dépôts par voie physique (PVD), le procédé sol-gel permet de réaliser des traitements antireflets à température et pression ambiantes sur des substrats de grande dimension aussi variés que du verre, des cristaux non linéaires ou encore des substrats organiques souples sans investissement de moyens très coûteux. Les techniques de dépôt habituellement utilisées sont le trempage-retrait, l’enduction centrifuge ou encore l’enduction laminaire.
Des travaux récents menès au CEA (thèse J. Marchand, Univ TOURS -2021) ont montré que l'utilisastion d'une technologie de spray est également envisageable pour réaliser de tels dépôts. Cette technologie innovante , habituellement utilisée pour réaliser des couches épaisses, présente des interêts multiples:
> Technologie peu coûteuse et facilement intégrable à une ligne de production
> Très bon rendement (faible consommation de solution sol-gel au regard des moyens de mise en œuvre classiques)
> Possibilité de traiter de grandes surfaces (planes ou en formes)

L'objectif de ce stage en alternance est d'optimiser le procédé developpé précédement sur échantillon (200x200 mm²) afin de le rendre compatible du traitement de composants de grandes dimensions (400x400 mm² et plus).

Au cours du stage le candidat devra optimisier les conditions de dépôt et de séchage afin d’obtenir sur grands composants des couches d’épaisseur submicronique dont les caractéristiques sont compatibles des spécifications optiques recherchées (homogénéité d’épaisseur à quelques nanomètres près, absence de défauts d’aspect, …).
Pour cela le travail s'appuyera, entre autres, sur la caractérisation et la modélisation du séchage afin d'orienter au mieux le choix des paramètres 'procédé'.

Profil du candidat

Bac+5

Localisation du poste

Site

Le Ripault

Localisation du poste

France, Centre-Val de Loire, Indre et Loire (37)

Ville

Monts