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Moteur de recherche d'offres d'emploi CEA

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Traitement de données et développement d'un logiciel pour la lithographie H/F


Détail de l'offre

Informations générales

Entité de rattachement

Le Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA) est un organisme public de recherche.

Acteur majeur de la recherche, du développement et de l'innovation, le CEA intervient dans le cadre de ses quatre missions :
. la défense et la sécurité
. l'énergie nucléaire (fission et fusion)
. la recherche technologique pour l'industrie
. la recherche fondamentale (sciences de la matière et sciences de la vie).

Avec ses 16000 salariés -techniciens, ingénieurs, chercheurs, et personnel en soutien à la recherche- le CEA participe à de nombreux projets de collaboration aux côtés de ses partenaires académiques et industriels.  

Référence

2019-9644  

Description de l'unité

Le CEA / LETI est un institut de recherche appliquée en micro et nanotechnologies, technologies de l'information et de la santé.
Interface privilégiée du monde industriel et de la recherche académique, il assure chaque année le développement et le transfert de technologies innovantes dans des secteurs variés via des programmes de recherche utilisant notre plate-forme technologique.

Délai de traitement

2 mois

Description du poste

Domaine

Technologies micro et nano

Contrat

Alternance

Intitulé de l'offre

Traitement de données et développement d'un logiciel pour la lithographie H/F

Sujet de stage

Au sein de la plate-forme Silicium, la lithographie optique par immersion contribue à la réalisation de dispositifs de nanotechnologie amont dans le cadre de projets internes ou de demandes clients. La préparation des données de lithographie (OPC) est une étape nécessaire pour améliorer la résolution des motifs visés. Dans le contexte de la montée en quantité des besoins de production de lithographie optique par immersion, un renforcement pour le traitement OPC, la calibration de modèles de lithographie ainsi que le développement d'outils associés est nécessaire.
Ces axes de travail permettront, d'une part, d'améliorer la production de lithographie optique et, d'autre part, contribueront à développer de nouvelles capabilités et des standards de métrologie.

Durée du contrat (en mois)

36

Description de l'offre

Dans ce cadre, les objectifs de l'alternance se déclinent comme suit:

- Conception et mise en place d’un flow automatique de traitement des corrections OPC sous Python
- Automatisation des liens entre les équipements de lithographie et de métrologie.
- Création de recettes de métrologie offline afin d’optimiser l’utilisation des équipements en salle blanche.
- Etude de robustesse des modèles calibrés en fonction de la variation des empilements lithographiques.


Pour se faire, l'alternant développera en langage Python, en s'ancrant sur une structure de développement collaboratif SVN via une méthodologie Agile.

 

Savoirs faire mis en œuvre :

Technologies : Bases de données de la microélectronique (OASIS), XML, Développement collaboratif SVN, Intégration continue, lithographie par immersion, microscopie électronique.

Outils de développement : Python

Logiciels : Calibre (Mentor)

 

Localisation du poste

Site

Grenoble

Localisation du poste

France, Auvergne-Rhône-Alpes

Critères candidat

Formation recommandée

Ecole d'ingénieur ou master : informatique industrielle ou microélectronique

Demandeur

Disponibilité du poste

02/09/2019