Le sujet d’alternance porte sur l’étude d’un magnétron destiné à réaliser des dépôts de couches minces par PVD, notamment par pulvérisation cathodique en régime impulsionnel de forte puissance (HiPIMS : High Impulse Power Magnetron Sputtering). L’objectif est d’étudier le fonctionnement et d’optimiser la paramétrie de ce magnétron. Ce travail sera mené avec différents matériaux (Al, Ti, etc.) sur des microballons ou sous forme de dépôts plans (membranes autoportées). Au cours de ce travail, l’alternant(e) devra se familiariser avec un équipement de dépôt par pulvérisation cathodique magnétron, en utilisant la technique conventionnelle (régime DC) et la méthode HiPIMS. Il/elle devra notamment étudier l’influence des conditions de dépôt sur les propriétés des couches minces synthétisées (microstructure, épaisseur, rugosité, contraintes résiduelles, etc.). Toutes les caractérisations (MEB, profilométrie, etc.) seront réalisées par l’alternant(e). L’ensemble de ces développements lui permettra d’acquérir un savoir-faire dans le domaine des dépôts sous vide et de la caractérisation des matériaux en couches minces. L’alternant(e) pourra mettre en application ses qualités d’autonomie, d’organisation et de synthèse dans un environnement technique et scientifique stimulant.Conformément aux engagements pris par le CEA en faveur de l'intégration des personnes en situation de handicap, cet emploi est ouvert à tous et toutes. Participant à la protection nationale, une enquête administrative est réalisée pour tous les salariés du CEA afin d'assurer l'intégrité et la sécurité de la nation.

Bac+2/+3